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泽攸科技半导体行业专用仪器
泽攸科技无掩膜光刻机
国产半导体行业专用仪器
泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合先进的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所得”,极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了**的曝光精度和重复定位能力,同时配备CCD相机逐场自动对焦系统,进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能,能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间,还便于在实验室或生产环境中部署。此外,ZML10A配备了直观易用的软件界面,大幅降低了操作门槛,即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备,ZML10A都能提供可靠的支持,是科研工作者和工业用户的理想选择。
技术特点
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源
▲ 绿光引导曝光,所见即所得
▲ CCD相机逐场图像自动对焦
▲ 高精度直线电机位移台
▲ 用户友好,易于操作的软件界面
光路远离结构图

主要指标

应用案例



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企业名称
安徽泽攸科技有限公司企业类型
信用代码
91340700MA2N3U8Q3E法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
400-810-0069转5600
DMD无掩膜光刻机由安徽泽攸科技有限公司提供,产地为安徽,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、建材/涂料/油漆、综合其他等领域,DMD无掩膜光刻机凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。
根据泽攸科技官方产品资料显示:DMD无掩膜光刻机的型号是无掩膜光刻机,品牌为安徽泽攸。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
| 电子束光刻机 | 安徽泽攸 | 电子束光刻机 | 国产 | 电议 |
| 等离子体增强化学气相沉积系统CVD | 安徽泽攸 | 等离子体增强化学气相沉积系统CVD | 国产 | 电议 |
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