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泽攸科技半导体行业专用仪器
泽攸科技等离子体增强化学气相沉积系统CVD
国产半导体行业专用仪器
多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。
目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上(如金属、氧化物、半导体表面)直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料,用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价,且具有传统半导体生长工艺的兼容性。











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等离子体增强化学气相沉积系统CVD的使用方法?
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企业名称
安徽泽攸科技有限公司企业类型
信用代码
91340700MA2N3U8Q3E法人代表
注册地址
成立日期
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有效期限
经营范围
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等离子体增强化学气相沉积系统CVD由安徽泽攸科技有限公司提供,产地为安徽,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、建材/涂料/油漆、综合其他等领域,等离子体增强化学气相沉积系统CVD凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分),入选半导体行业专用仪器近30天热度榜。
根据泽攸科技官方产品资料显示:等离子体增强化学气相沉积系统CVD的品牌为安徽泽攸。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
| DMD无掩膜光刻机 | 安徽泽攸 | 无掩膜光刻机 | 国产 | 电议 |
| 电子束光刻机 | 安徽泽攸 | 电子束光刻机 | 国产 | 电议 |
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